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研究开发用设备

适合于研究开发的多靶磁控溅射台。先进的设计理念, 完全由计算机控制, 全自动化地进行多层薄膜沉积, 和多靶共溅射。

紧凑型磁控溅射台ACS-4000系列

用于多层膜的材料和存储器件的研究开发

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有机材料开发用 蒸发装置Mini- Lab

有机材料开发用

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